Influência da fotopolimerização por LED e luz halógena na resistência da união adesiva ao esmalte clareado
DOI:
https://doi.org/10.5335/rfo.v9i1.1643Resumo
Este estudo in vitro avaliou a influência da fotopolimerízação por Light Emitting Diodes na resistência ao ciseIhamento da união adesiva ao esmalte clareado com peróxido de carbamida a 10%. Sessenta dentes incisivos bovinos,lfltegros foram divididos em quatr? grupos (n= 15) de acordo com a reeii: zaçãoou não do tratamento clareador e com o tipo de fonte fotopolimerizadora empregada: Gl - c/areamento / luz halógena; G2 - sem clareamento (controle) / luz halógena; G3 - clareamento / LED; G4 - Sem clareamento (controle) / LED. 05 grupos experimentais foram submetidos ao clareamento por um período de 14 dias, com exposição diária de quatro horas. Os grupos de controle foram armazenados em saliva artificial, a sr=c, por um período igual ao adotado para o clar12iiJento. Os procedimentos de uni~Q;,da resina composta ao esmalte obedecerem às recomendações dos fabricantes. Em seguida, todos 05 corpos-de-prova foram armazenados em água .destiiede por 24 horas, a 37 0e, até a realização do ensaio de resistência ao cisalhamento. O maior valor médio de resistência ao cisalhamento (13,66 MPa) foi obtido para o grupo G2 e o menot, para o grupo G4 (11,61MPa). A ~omp.aração .,!os f!'úpos através da analise de venencie (Anova 2-wayJ demonstrou não haver diferenças significativas para ambos os fatores consi;:''derà(jQs"neste estudo (clsreemento e 'tipoaê"fonté fotopo(im~ri.zadora), bem como.psrs a interaçãoentre esses. Assim, foi possível conc/uirque o clareamento do esmalte comper6xido de csrbemide a 10% e o tipo de fonte fotopolimerizadora utilizada não interferiram na resistência da união adesiva a este substrsto.
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